ZrAl Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသည်။

Zirconium အလူမီနီယမ် sputtering ပစ်မှတ်ကို လေဟာနယ် အရည်ပျော်ခြင်း နှင့် အမှုန့် သတ္တုဗေဒ ဖြင့် ဖန်တီးထားခြင်း ဖြစ်သည်။Zr-Al သတ္တုစပ်များသည် အဆင့်မြင့်သတ္ထုမက်ထရစ်ပေါင်းစပ်ပစ္စည်းအဖြစ် အထူးအပလီကေးရှင်းအမျိုးမျိုးအတွက် ဆွဲဆောင်မှုရှိပါသည်။Zirconium သည် အလူမီနီယံသတ္တုစပ်များတွင် သတ်မှတ်ထားသော အသေးအမွှားထပ်ပေါင်းတစ်မျိုးဖြစ်သည်။

အလူမီနီယံသတ္တုစပ်များတွင် ဇာကွန်နီယမ်ပါဝင်မှုသည် ဖိအားဒဏ်ခံနိုင်မှုကို လျှော့ချနိုင်ပြီး မြင့်မားသောအပူချိန်တွင် ပြန်လည်ပုံသွင်းခြင်းနှင့် စပါးကြီးထွားမှုကို ဟန့်တားနိုင်သည်။

Rich Special Materials သည် Sputtering Target ၏ ထုတ်လုပ်သူဖြစ်ပြီး Zirconium Aluminum Sputtering Materials သည် Customer များ၏ သတ်မှတ်ချက်များနှင့်အညီ ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။