ကျွန်ုပ်တို့၏ဝဘ်ဆိုဒ်များမှကြိုဆိုပါသည်။

FeV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသည်။

သံဗန်နေဒီယမ်

အတိုချုံးဖော်ပြချက်-

အမျိုးအစား

Alloy Sputtering ပစ်မှတ်

ဓာတုဖော်မြူလာ

FeV

ဖွဲ့စည်းမှု

သံဗန်နေဒီယမ်

သန့်ရှင်းစင်ကြယ်ခြင်း။

99.9%၊ 99.95%၊ 99.99%

ပုံသဏ္ဍာန်

ပန်းကန်များ၊ ကော်လံပစ်မှတ်များ၊ arc cathodes၊ စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်သည်။

ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်

ဖုန်စုပ်စက် အရည်ပျော်ခြင်း။

ရရှိနိုင်သောအရွယ်အစား

L≤200mm၊W≤200mm


ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်

ထုတ်ကုန်အမှတ်အသား

Iron Vanadium sputtering ပစ်မှတ်များကို Vacuum coating ဖြင့် ဖန်တီးထားပြီး Vanadium Pentoxide ကို ပါဝင်ပစ္စည်းအဖြစ် ပုံမှန်အားဖြင့် အသုံးပြုပါသည်။Iron Vanadium အလွိုင်းကို သတ္တုစပ်သံမဏိ သို့မဟုတ် အလွိုင်းသွန်းသံအတွက် ပေါင်းထည့်မှုအဖြစ် ကျယ်ပြန့်စွာအသုံးပြုသည်။တရုတ်နိုင်ငံတွင် အသုံးများသော Ferro-Vanadium သတ္တုစပ်များသည် V401, V402 ဖြစ်ပြီး သံမဏိသွန်းလုပ်ရာတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသည့် Vanadium ၏ 40% ပါဝင်ပြီး မြင့်မားသောအပူချိန်တွင် ခိုင်မာမှု၊ ခိုင်ခံ့မှုနှင့် ခံနိုင်ရည်အား သိသိသာသာ တိုးတက်စေနိုင်သည်။

ကြွယ်ဝသော အထူးပစ္စည်းများသည် Sputtering ပစ်မှတ်ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် အထူးပြုပြီး Iron Vanadium Sputtering Materials ကို Customer များ၏ သတ်မှတ်ချက်များနှင့်အညီ ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။


  • ယခင်-
  • နောက်တစ်ခု: