WNiFe Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသည်။

Tungsten Nickel Iron alloy sputtering ပစ်မှတ်ကို အမှုန့်သတ္တုဗေဒနည်းဖြင့် ဖန်တီးသည်။၎င်းတွင် မြင့်မားသောသိပ်သည်းဆ၊ ပျော့ပျောင်းမှုနှင့် ခိုင်ခံ့မှုကဲ့သို့သော ထူးခြားသောဂုဏ်သတ္တိများစွာ ရှိပြီး အခြားသတ္တုအလွိုင်းများနှင့် ယှဉ်၍မရပေ။သမရိုးကျအားဖြင့် နီကယ်သံအချိုးသည် 7:3 သို့မဟုတ် 1:1 ဖြစ်လိမ့်မည်။

Tungsten Nickel သံသတ္တုစပ်တွင် မြင့်မားသောသိပ်သည်းဆ၊ ခိုင်ခံ့မှု၊ ပလပ်စတစ်ဖြစ်မှု၊ ပြုပြင်နိုင်စွမ်း၊ အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူနှင့် လျှပ်စစ်စီးကူးမှု၊ x-ray နှင့် γ rays များကို စုပ်ယူနိုင်သည့် စွမ်းရည်တို့ပါရှိသည်။Tungsten Nickel သံသတ္တုစပ်ကို အကာအရံ၊ တန်ပြန်ချိန်ညှိမှု၊ ဟန်ချက်ညီမှု၊ တုန်ခါမှုကို ထိခိုက်စေခြင်း၊

ကြွယ်ဝသော အထူးပစ္စည်းများသည် Sputtering ပစ်မှတ်ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် အထူးပြုထားပြီး ဝယ်ယူသူများ၏ သတ်မှတ်ချက်များနှင့်အညီ Tungsten Nickel Iron Sputtering Materials ကို ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။