CoCrTa Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating ကို စိတ်တိုင်းကျ ပြုလုပ်ထားသည်။

Cobalt Chromium Tantalum sputtering ပစ်မှတ်ကို သွန်းလုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်နှင့် လေဟာနယ် အရည်ပျော်ခြင်းဖြင့် ထုတ်လုပ်ပါသည်။ထို့နောက် လိုချင်သော ပစ်မှတ်ပုံသဏ္ဍာန်အဖြစ် ဖွဲ့စည်းကြသည်။၎င်းတွင် မြင့်မားသော သန့်စင်မှုနှင့် တစ်သားတည်းဖြစ်တည်နေသော အသေးစားဖွဲ့စည်းမှု ပါဝင်သည်။Co-Cr-Ta သည် ၎င်း၏ သံလိုက်ဂုဏ်သတ္တိများအတွက် သံလိုက်မှတ်တမ်းတင်ခြင်းအတွက် အရေးပါသောပစ္စည်းဖြစ်ခဲ့သည်- coercivity မြင့်မားခြင်း၊ ဆူညံသံနည်းခြင်းနှင့် အလွန်ကောင်းမွန်သော စတုရန်းပုံများ။

ကြွယ်ဝသော အထူးပစ္စည်းများသည် Sputtering ပစ်မှတ်ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် အထူးပြုပြီး Cobalt Chromium Tantalum Sputtering Materials များကို Customer များ၏ သတ်မှတ်ချက်များနှင့်အညီ ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။