အထူးသဖြင့် magnetron sputtering coating ကျွမ်းကျင်မှု ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်လာသောကြောင့် sputtering ပစ်မှတ်ပစ္စည်းများကို ရွေးချယ်ရာတွင် လက်ရှိအချိန်တွင် လူများအတွက် ပြဿနာတစ်ခုဖြစ်နေပြီဖြစ်သော၊ အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲခြင်းဖြင့်၊ အလွှာ၏အပေါ်ယံလွှာ၏အလွှာသို့ပစ်မှတ်အရာအား sputtering လုပ်ခြင်းဖြင့် sputtering film ၏အရည်အသွေးအပေါ်အရေးကြီးသောအကျိုးသက်ရောက်မှုရှိသောကြောင့်၊ ထို့ကြောင့်ပစ်မှတ်ပစ္စည်းလိုအပ်ချက်များသည်ပိုမိုတင်းကျပ်သည်။Beijing Relaxation ၏ အယ်ဒီတာနှင့် အတူ လေဟာနယ်တွင် ပက်ဖျန်းသည့် ပစ်မှတ်၏ အခန်းကဏ္ဍအကြောင်း ဤနေရာတွင် လေ့လာပါမည်။
၁။ ပစ်မှတ်ပစ္စည်းရွေးချယ်ရေးမူနှင့် အမျိုးအစားခွဲခြားခြင်း။
ပစ်မှတ်ပစ္စည်းရွေးချယ်ရာတွင်၊ ရုပ်ရှင်ကိုယ်တိုင်အသုံးပြုခြင်းအပြင် အောက်ပါပြဿနာများကိုလည်း ထည့်သွင်းစဉ်းစားသင့်သည်-
ပြဿနာ 1. အမြှေးပါး၏အသုံးပြုမှုနှင့်စွမ်းဆောင်ရည်လိုအပ်ချက်များအရ၊ ပစ်မှတ်ပစ္စည်းသည် သန့်ရှင်းမှု၊ မဂ္ဂဇင်းအကြောင်းအရာ၊ အစိတ်အပိုင်းတူညီမှု၊ စက်ပစ္စည်းတိကျမှုစသည်ဖြင့် နည်းပညာဆိုင်ရာလိုအပ်ချက်များနှင့် ပြည့်မီရန် လိုအပ်ပါသည်။
ပြဿနာ 2. ပစ်မှတ်ပစ္စည်းသည် ဖလင်ဖွဲ့စည်းပြီးနောက် ကောင်းမွန်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ကြံ့ခိုင်မှုနှင့် ဓာတုဗေဒ တည်ငြိမ်မှုရှိသင့်သည်။
ပြဿနာ 3. ဓါတ်ပြုမှု sputtering ဖလင်ကဲ့သို့ ဓာတ်ပြုမှု ဓါတ်ငွေ့ဖြင့် ဒြပ်ပေါင်းဖလင်ကို အလွယ်တကူ ထုတ်လုပ်နိုင်ရန် ဖလင်ပစ္စည်းအတွက် လိုအပ်ပါသည်။
ပြဿနာ 4. ပစ်မှတ်နှင့် matrix အား ခိုင်မာစေရန် လိုအပ်သည်၊ သို့မဟုတ်ပါက matrix နှင့် ကောင်းမွန်သော ကပ်နိုင်မှုရှိသော ဖလင်ပစ္စည်းကို အသုံးပြုသင့်သည်၊ အောက်ခြေဖလင်အလွှာကို ဦးစွာ sputter လုပ်ပြီး လိုအပ်သော ဖလင်အလွှာကို ပြင်ဆင်ပါ။
မေးခွန်း 5. ရုပ်ရှင်၏စွမ်းဆောင်ရည်လိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းခြင်း၏အနှစ်သာရတွင်၊ ပစ်မှတ်နှင့် matrix ၏အပူချိန်ချဲ့ထွင်မှုကိန်းဂဏန်းကွာဟချက် သေးငယ်လေ၊ sputtering ရုပ်ရှင်၏အပူဖိအားသက်ရောက်မှုကိုလျှော့ချရန်အတွက် ပိုမိုကောင်းမွန်ပါသည်။
အသုံးများသော ပစ်မှတ်များစွာကို ပြင်ဆင်ခြင်း။
(၁) cr ပစ်မှတ်
Chromium သည် sputtering film material အနေဖြင့် base material နှင့် ပေါင်းစပ်ရန် လွယ်ကူရုံသာမက ကော်မီယမ်နှင့် အောက်ဆိုဒ် CrQ3 ဖလင်၊ ၎င်း၏ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများ၊ အက်ဆစ်ခံနိုင်ရည်နှင့် အပူတည်ငြိမ်မှု ပိုမိုကောင်းမွန်ပါသည်။
Beijing Ruichi High-tech Co., Ltd. သည် အဓိကအားဖြင့် ပါဝင်နေသည်- တိုက်တေနီယမ်ပစ်မှတ် ဇာကွန်နီယမ်ပစ်မှတ်၊ အလူမီနီယံပစ်မှတ်၊ နီကယ်ပစ်မှတ်၊ ခရိုမီယမ်ပစ်မှတ်၊ ဖြိုက်နက်ပစ်မှတ်၊ မိုလီဘဒင်နမ်ပစ်မှတ်၊ ကြေးနီပစ်မှတ်၊ ဆီလီကွန်ပစ်မှတ်၊ နီအိုဘီယမ်ပစ်မှတ်၊ တန်တလမ်ပစ်မှတ်၊ တိုက်တေနီယမ်-ဆီလီကွန်အလွိုင်း ပစ်မှတ်၊ တိုက်တေနီယမ်-နီအိုဘီယမ်အလွိုင်းပစ်မှတ်၊ တိုက်တေနီယမ်-အဖြိုက်နက်အလွိုင်းပစ်မှတ်၊ တိုက်တေနီယမ်-ဇာကွန်နီယမ်အလွိုင်းပစ်မှတ်၊ နီကယ်-ခရိုမီယမ်အလွိုင်းပစ်မှတ်၊ ဆီလီကာ-လူမီနီယမ်အလွိုင်းပစ်မှတ်၊ နီကယ်-ဗန်နေဒီယမ်အလွိုင်းပစ်မှတ်၊ ternary သတ္တုစပ်ပစ်မှတ်ပစ္စည်း၊ အလှဆင်ခြင်း/မာကျောသောမျက်နှာပြင်နှင့် လုပ်ငန်းဆိုင်ရာအပေါ်ယံပိုင်း၊ ဗိသုကာမှန်၊ ပြားချပ်ချပ်ပြသမှု/အလင်းဓါတ်ပုံလျှပ်စစ်၊ အလင်းသိုလှောင်မှု၊ အီလက်ထရွန်နစ်ပစ္စည်း၊ ပုံနှိပ်ခြင်းနှင့် အခြားသော အသက်မွေးဝမ်းကျောင်းလုပ်ငန်းများတွင် အသုံးများသည်။
စာတိုက်အချိန်- ဇွန်-၀၂-၂၀၂၂