တိုက်တေနီယမ် အလွိုင်းပစ်မှတ် ပစ္စည်းများ အသုံးချသည့် လုပ်ငန်းများတွင် အဘယ်နည်း

Sputtering တိုက်တေနီယမ်အလွိုင်းပစ်မှတ်နှင့် တိုက်တေနီယမ်သတ္တုတို့သည် တိုက်တေနီယမ်ဖြင့်ဖွဲ့စည်းထားသောကြောင့် အချက်အလက်များမှာ အကြမ်းဖျင်းတူညီသော်လည်း ၎င်းတို့နှစ်ခုကြားရှိကွာခြားချက်မှာ အဓိကအားဖြင့် sputtering တိုက်တေနီယမ်သတ္တုစပ်ပစ်မှတ်တွင် နည်းလမ်းများစွာဖြင့် တိုက်တေနီယမ်သတ္တုဖြင့်ပြုလုပ်ထားပြီး၊ တိုက်တေနီယမ်သည် သဘာဝအတိုင်းဖြစ်ပေါ်ပါသည်။ တိုက်တေနီယမ်သတ္တုရိုင်း။ တိုက်တေနီယမ်အလွိုင်းပစ်မှတ်များကို လုပ်ငန်းအမျိုးအစားများစွာတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုနိုင်သည်၊ ယခုအခါ Beijing Richmat ၏စာရေးသူသည် ကျွန်ုပ်တို့အား အသေးစိတ်မိတ်ဆက်ပေးရန်အတွက် အခြေအနေအသုံးပြုမှုနှင့်ပတ်သက်၍ ယေဘုယျအားဖြင့် တိုက်တေနီယမ်သတ္တုစပ်ပစ်မှတ်အများအပြားကို အကျဉ်းချုပ်ဖော်ပြခဲ့သည်။
့                                               
一、Ti သည် ပေါင်းစပ်ဆားကစ်များအတွက် ပစ်မှတ်များ
တိုက်တေနီယမ်အလွိုင်းပစ်မှတ်များကို sputtering ပြုလုပ်ရန်အတွက် လိုအပ်ချက်များသည် ပေါင်းစပ်မဟုတ်သော ဆားကစ်များနှင့် ပေါင်းစည်းထားသော ဆားကစ်များကြားတွင် မတူညီပါ။ယေဘုယျအားဖြင့်၊ ပေါင်းစပ်ဆားကစ်များသည် ပိုမိုသန့်ရှင်းမှု၊ သေးငယ်သောစပါးအရွယ်အစားနှင့် ပိုမိုတိကျသောစကေးတိကျမှုကဲ့သို့သော coating data အတွက် ပိုမိုမြင့်မားသောလိုအပ်ချက်များရှိသည်။ ပေါင်းစည်းထားသောဆားကစ်များရှိ တိုက်တေနီယမ်ပစ်မှတ်များ၏ သန့်စင်မှုသည် 99.995% ထက် ပိုများပါသည်။ တိုက်တေနီယမ် ပစ်မှတ် လိုအပ်ချက် အမျိုးမျိုး ကွဲပြားသည်ကို ညွှန်ပြသော ဆားကစ်များ။
二、ပြားချပ်ချပ်မျက်နှာပြင်ပြသမှုအတွက် Ti ပစ်မှတ်
ပြားချပ်ချပ် မျက်နှာပြင်များတွင် အသုံးပြုသည့် တိုက်တေနီယမ် အလွိုင်းပစ်မှတ်များသည် အရည်ပုံဆောင်ခဲ မျက်နှာပြင်၊ ပလာစမာ မျက်နှာပြင်၊ လျှပ်စစ်ဖြာထွက်မှု မျက်နှာပြင် နှင့် အကွက်ထုတ်လွှတ်မှု မျက်နှာပြင်တို့ ပါဝင်သည်။ ပြားချပ်ချပ် မျက်နှာပြင်၏ ပါးလွှာသော ဖလင်သည် ဖျတ်ခနဲ ပုံဖော်သည့် နည်းလမ်းဖြစ်ပြီး Al၊ Cu၊ Ti နှင့် Mo တို့သည် ပြားချပ်ချပ်ပြားအတွက် အဓိက သတ္တု sputtering ပစ်မှတ်များ ဖြစ်သည်။ displays.ပြားချပ်ချပ်မျက်နှာပြင်ပြသမှုများအတွက် တိုက်တေနီယမ်အလွိုင်းပစ်မှတ်များ၏ သန့်ရှင်းမှုသည် အများအားဖြင့် 99.9% ထက် ကြီးသည်။
三、Ti သည် အလှဆင်ပစ္စည်းများအတွက် ပစ်မှတ်ဖြစ်သည်။
မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော တိုက်တေနီယမ်အလွိုင်းပစ်မှတ်ပစ္စည်းသည် အလွန်ကောင်းမွန်သောလေထုချေးခံနိုင်ရည်ရှိပြီး လေထဲတွင်ရေရှည်အသုံးပြုမှုမှာ အရောင်မပြောင်းဘဲ၊ တိုက်တေနီယမ်၏မူလအရောင်နှင့် လူသားတို့ထိတွေ့မှုမတည့်ခြင်းနှင့် အခြားထူးခြားကောင်းမွန်သောလက္ခဏာများကို သေချာစေရန်။ထို့ကြောင့်၊ မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော တိုက်တေနီယမ်ကို အလှဆင်ပစ္စည်းများအဖြစ်လည်း အသုံးပြုနိုင်ပြီး မကြာသေးမီနှစ်များအတွင်း လက်ကောက်များ၊ နာရီများနှင့် မျက်မှန်များနှင့် တိုက်တေနီယမ်သန့်စင်မှုရှိသော အခြားအဆင်တန်ဆာများသည် 5N အဆင့်သို့ ရောက်ရှိခဲ့သည်။
四、Ti သည် အလွန်မြင့်မားသော ဖုန်စုပ်စုပ်စက်စနစ်များအတွက် Ti ပစ်မှတ်များ
တိုက်တေနီယမ်သည် မြင့်မားသောအပူချိန်တွင် ဒြပ်စင်များနှင့် ဒြပ်ပေါင်းများစွာနှင့် ဓာတ်ပြုနိုင်သည့် ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာ တက်ကြွသောသတ္တုတစ်မျိုးဖြစ်သည်။မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော တိုက်တေနီယမ်အလွိုင်းပစ်မှတ်သည် တက်ကြွသောဓာတ်ငွေ့များ (ဥပမာ O2၊ N2၊ CO၊ CO2၊ 650°C အထက်ရေငွေ့) နှင့် ပန့်နံရံတွင် အငွေ့ပျံနေသော Ti film သည် မြင့်မားသောစုပ်ယူမှုစွမ်းဆောင်ရည်ရှိသော မျက်နှာပြင်ကို ဖန်တီးနိုင်သည်။ .ဤပိုင်ဆိုင်မှုသည် Ti ကို အလွန်မြင့်မားသော လေဟာနယ်ဓာတ်ငွေ့ထုတ်ယူသည့်စနစ်တွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုစေသည်။ ပန့်၊ sputtering ion pump စသည်တို့ကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေရန်အတွက် အသုံးပြုပါက၊ ၎င်းသည် sputtering ion pump ၏ အဆုံးစွန်သောလည်ပတ်ဖိအားကို 10-9PA အထိနိမ့်စေနိုင်သည်။