အီလက်ထရွန်နစ်စက်မှုလုပ်ငန်း၏ ပြီးပြည့်စုံသော စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် အသုံးချပတ်ဝန်းကျင် လိုအပ်ချက်များကို မြှင့်တင်ခြင်းဖြင့်၊ molybdenum sputtering ပစ်မှတ်သည် ၎င်း၏ထူးခြားသောစွမ်းဆောင်ရည်ကို ပြသသည်။Molybdenum sputtering ပစ်မှတ်သည် အခြေခံပစ္စည်းများ အမျိုးမျိုးတွင် ရုပ်ရှင်များကို ဖန်တီးနိုင်သည်။ဤ sputtering ဖလင်ကို အီလက်ထရွန်နစ် အစိတ်အပိုင်းများနှင့် အီလက်ထရွန်နစ် ထုတ်ကုန်များတွင် တွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုပါသည်။molybdenum sputtering ပစ်မှတ်ကို အသုံးချခြင်းကား အဘယ်နည်း။အောက်ပါတို့သည် RSM ၏စုစည်းမှုကိုမျှဝေသည်။
molybdenum sputtering ပစ်မှတ်များကို အမျိုးအစားခွဲခြားခြင်း။
1. Flat ပစ်မှတ်
2၊ ပစ်မှတ်လှည့်ခြင်း။
molybdenum sputtering ပစ်မှတ်၏ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်
အအေး isostatic နှိပ်ခြင်း - အလယ်အလတ်ကြိမ်နှုန်းမီးဖိုဖြင့် ရောနှောခြင်း - လှိမ့်စက်ဖြင့် လှိမ့်ခြင်း - စက်ပြုလုပ်ခြင်း - စမ်းသပ်ခြင်း - ထုတ်ကုန်များကို ရွေးချယ်ပါ။
molybdenum sputtering ပစ်မှတ်ပစ္စည်းကိုအသုံးပြုခြင်း-
Molybdenum ပစ်မှတ်ပစ္စည်းကို conductive glass၊ STN/TN/ TFT-LCD၊ optical glass၊ ion coating စသည်တို့ကဲ့သို့ လုပ်ငန်းများတွင် တွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုပါသည်။ လေယာဉ်အပေါ်ယံနှင့် rotary coating စနစ်အားလုံးအတွက် သင့်လျော်ပါသည်။
၎င်းတို့သည် မြင့်မားသော အရည်ပျော်မှတ်များ၊ မြင့်မားသော လျှပ်စစ်စီးကူးမှု၊ တိကျသော impedance နည်းပါးမှု၊ ပိုမိုကောင်းမွန်သော ချေးခံနိုင်ရည်နှင့် ထူးထူးခြားခြား ပတ်ဝန်းကျင်စွမ်းဆောင်ရည်တို့အပေါ် အခြေခံထားသည်။ယခင်က Flat panel display ၏ အဓိက ဝါယာကြိုးပစ္စည်းမှာ ခရိုမီယမ်ဖြစ်ပြီး၊ ကြီးမားပြီး တိကျမှုမြင့်မားသောကြောင့် flat display ၏ တိကျသော impedance နည်းပါးသော ပစ္စည်းများ ပိုမိုလိုအပ်လာသည်။
ထို့အပြင် သဘာဝပတ်ဝန်းကျင် ထိန်းသိမ်းရေးကိုလည်း ထည့်သွင်းစဉ်းစားရမည်ဖြစ်သည်။Molybdenum သည် ခရိုမီယမ်နှင့် နှိုင်းယှဉ်ကာ ပတ်ဝန်းကျင် ညစ်ညမ်းမှု မရှိသော impedance နှင့် film stress ၏ 1/2 သာ အားသာချက် ဖြစ်သောကြောင့် ပြားချပ်ချပ် မျက်နှာပြင်ကို sputtering ပြုလုပ်ရန် ဦးစားပေး ပစ္စည်းများထဲမှ တစ်ခု ဖြစ်သည်။
တင်ချိန်- ဇွန် ၂၈-၂၀၂၂