ကျွန်ုပ်တို့၏ဝဘ်ဆိုဒ်များမှကြိုဆိုပါသည်။

Sputtering ပစ်မှတ် - နီကယ် ခရိုမီယမ် ပစ်မှတ်

Target သည် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များပြင်ဆင်မှုအတွက် အဓိကအခြေခံပစ္စည်းဖြစ်သည်။လက်ရှိတွင်၊ အသုံးများသော ပစ်မှတ်ပြင်ဆင်မှုနှင့် စီမံဆောင်ရွက်သည့်နည်းလမ်းများတွင် အဓိကအားဖြင့် အမှုန့်သတ္တုဗေဒနည်းပညာနှင့် ရိုးရာအလွိုင်းရောစပ်ခြင်းနည်းပညာတို့ ပါဝင်ပြီး ပိုမိုနည်းပညာနှင့် အတော်လေးသစ်လွင်သော လေဟာနယ်ကျိုခြင်းနည်းပညာကို လက်ခံကျင့်သုံးနေပါသည်။

နီကယ်-ခရိုမီယမ် ပစ်မှတ်ပစ္စည်း၏ ပြင်ဆင်မှုမှာ ဖောက်သည်များ၏ ကွဲပြားခြားနားသော သန့်စင်မှုလိုအပ်ချက်များနှင့်အညီ ကုန်ကြမ်းအဖြစ် နီကယ်နှင့် ခရိုမီယမ်ကို ကွဲပြားသော သန့်စင်မှုကို ရွေးချယ်ရန်နှင့် ရောစပ်ရန်အတွက် ဖုန်စုပ်စက်ဖြင့် ရောစပ်ထားသော မီးဖိုကို အသုံးပြုရန်ဖြစ်သည်။အရည်ကျိုခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင် ယေဘူယျအားဖြင့် အရည်ကျိုခန်းအတွင်း လေဟာနယ်ထုတ်ယူခြင်း - အာဂွန်ဓာတ်ငွေ့ဆေးသည့်မီးဖို - လေဟာနယ်ထုတ်ယူခြင်း - အင်မတန်ဓာတ်ငွေ့ကာကွယ်ခြင်း - အရည်ကျိုခြင်း သတ္တုစပ်ပြုလုပ်ခြင်း - သန့်စင်ခြင်း - သတ္တုတူးဖော်ခြင်း - အအေးခံခြင်းနှင့် ပုံသွင်းခြင်း ပါဝင်သည်။

ကျွန်ုပ်တို့သည် ကာစ်ထည့်ခြင်း၏ဖွဲ့စည်းမှုကို စမ်းသပ်မည်ဖြစ်ပြီး လိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီသောပစ္စည်းများကို နောက်တစ်ဆင့်တွင် စီမံဆောင်ရွက်ပါမည်။ထို့နောက် နီကယ်-ခရိုမီယမ် မီးခိုးများကို အတုလုပ်ကာ လှိမ့်ကာ ဖောက်သည်၏ လိုအပ်ချက်နှင့် ကိုက်ညီသည့် နီကယ်-ခရိုမီယမ် ပစ်မှတ်ကို ရရှိရန် ဖောက်သည်၏ လိုအပ်ချက်နှင့်အညီ လှိမ့်ထားသော ပန်းကန်ပြားကို ဖောက်သည်၏ လိုအပ်ချက်နှင့်အညီ ပြုပြင်သည်။


စာတိုက်အချိန်- ဖေဖော်ဝါရီ- ၀၁-၂၀၂၃