မကြာသေးမီက၊ မြင့်မားသောသန့်ရှင်းသော အလူမီနီယံပစ်မှတ်များကို စီမံဆောင်ရွက်သည့်နည်းလမ်းများနှင့်ပတ်သက်၍ ဖောက်သည်များထံမှ စုံစမ်းမေးမြန်းမှုများစွာရှိခဲ့သည်။ RSM ၏ပစ်မှတ်ကျွမ်းကျင်သူများက သန့်စင်သောအလူမီနီယံပစ်မှတ်အား အမျိုးအစားနှစ်မျိုးခွဲခြားနိုင်သည်- ပုံပျက်နေသောလူမီနီယမ်အလွိုင်းနှင့် သွန်းအလူမီနီယံအလွိုင်းများကို စီမံဆောင်ရွက်သည့်နည်းလမ်းအရ- ပုံပျက်နေသော အလူမီနီယမ်အလွိုင်းသည် ဖိအားအပြောင်းအလဲကို ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။အလူမီနီယံသတ္တုစပ်၏ သတ်မှတ်ချက်များ၊ ပုံစံအမျိုးမျိုးဖြင့် လုပ်ဆောင်နိုင်သည်။လေကြောင်းပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်း၊ တံခါးများနှင့် Windows စသည်တို့အတွက် အဓိကအားဖြင့် အသုံးပြုပါသည်။ အောက်တွင် RSM ၏ အယ်ဒီတာသည် မြင့်မားသောသန့်စင်မှုရှိသော အလူမီနီယံပစ်မှတ်ကို ကျွန်ုပ်တို့ထံ မျှဝေခွင့်ပြုပါလား။
ပုံပျက်ခြင်း အလူမီနီယမ်အလွိုင်းကို အပူမဟုတ်သော ကုသမှုနှင့် အားဖြည့်အလူမီနီယမ်အလွိုင်းအဖြစ် ခွဲခြားထားသည်။အပူကုသမှုမွမ်းမံထားသော အလူမီနီယံအလွိုင်းသည် အပူကုသမှုဖြင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများကို မတိုးတက်နိုင်ဘဲ၊ အဓိကအားဖြင့် မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောလူမီနီယမ်၊ စက်မှုသန့်စင်မှုမြင့်မားသောလူမီနီယမ်၊ စက်မှုသန့်စင်သောလူမီနီယမ်နှင့် စတုရန်းသံချေးဆန့်ကျင်သောအလူမီနီယံတို့အပါအ ၀ င် အအေးပုံစံပြောင်းလဲခြင်းဖြင့်သာ အားကောင်းနိုင်သည်။အပူကုသနိုင်သော အလူမီနီယံအလွိုင်းအား စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများ တိုးတက်ကောင်းမွန်စေရန် မီးငြိမ်းခြင်း နှင့် အိုမင်းခြင်းကဲ့သို့သော အပူကုသမှုနည်းလမ်းများဖြင့် ပိုမိုကောင်းမွန်အောင်ပြုလုပ်နိုင်ပြီး ၎င်းအား မာကျောသောလူမီနီယမ်၊ ပုံပျက်နေသောလူမီနီယမ်၊ စူပါမာကျောသောလူမီနီယမ်နှင့် အထူးအလူမီနီယံအလွိုင်းဟူ၍ ခွဲခြားနိုင်သည်။
အလူမီနီယံအလွိုင်းကို ဓာတုဖွဲ့စည်းမှုဖြင့် သွန်းခြင်းအား အလူမီနီယံဆီလီကွန်အလွိုင်း၊ အလူမီနီယံ၊ ကြေးနီ၊ အလူမီနီယမ်နှင့် မဂ္ဂနီဆီယမ်သတ္တုစပ်များ၊ အလူမီနီယံဇင့်အလွိုင်းနှင့် အလူမီနီယံသတ္တုစပ် ရှားပါးမြေအလွိုင်းကို hypereutectic al-si သတ္တုစပ်ဆီလီကွန်အလွိုင်းအဖြစ် ပိုင်းခြားနိုင်သည်၊ eutectic silicon၊ သတ္တုစပ်များ၊ eutectic silicon အလူမီနီယမ်အလွိုင်း၊ အလွိုင်းသွန်းအဖြစ်၊ အချို့သော အလူမီနီယမ်အလွိုင်းများသည် အပူကုသမှု၊ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများနှင့် သံချေးတက်ခြင်းတို့ကို ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်းဖြင့် ကောင်းမွန်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများကို ရရှိနိုင်သည်။
အလွန်ကောင်းမွန်သော 5N သန့်စင်ထားသော အလူမီနီယမ်ကို အပူပေးခြင်း၊ အအေးခံခြင်း၊ CNC စက်ပြုလုပ်ခြင်း၊ အလူမီနီယံအလွိုင်းပစ်မှတ်၊ အယ်ကာလီသတ္တုအညစ်အကြေးမရှိခြင်း၊ အောက်ဆီဂျင်ပါဝင်မှု အလွန်နည်းသောကြောင့် အဆင့်မြင့် semiconductor နှင့် အခြားနယ်ပယ်များအတွက် သင့်လျော်ပါသည်။
စာတိုက်အချိန်- ဇူလိုင်-၁၂-၂၀၂၂