ဒေတာသိမ်းဆည်းခြင်းလုပ်ငန်းတွင် အသုံးပြုသည့် ပစ်မှတ်ပစ္စည်းသည် မြင့်မားသောသန့်စင်မှုလိုအပ်ပြီး sputtering လုပ်နေစဉ်အတွင်း အညစ်အကြေးအမှုန်များဖြစ်ပေါ်ခြင်းကို ရှောင်ရှားရန် အညစ်အကြေးများနှင့် ချွေးပေါက်များကို လျှော့ချရပါမည်။အရည်အသွေးမြင့် ထုတ်ကုန်များအတွက် အသုံးပြုသည့် ပစ်မှတ်ပစ္စည်းသည် ၎င်း၏ပုံဆောင်ခဲအမှုန်အမွှားအရွယ်အစားသည် သေးငယ်ပြီး တစ်ပုံစံတည်းဖြစ်ရန် လိုအပ်ပြီး ကြည်လင်သော တိမ်းညွှတ်မှုမဖြစ်ရန် လိုအပ်သည်။အောက်တွင်၊ ပစ်မှတ်ပစ္စည်းအတွက် optical storage လုပ်ငန်း၏ လိုအပ်ချက်များကို လေ့လာကြည့်ကြပါစို့။
1. သန့်ရှင်းစင်ကြယ်ခြင်း။
လက်တွေ့အသုံးချမှုတွင်၊ ပစ်မှတ်ပစ္စည်းများ၏သန့်ရှင်းစင်ကြယ်မှုသည် မတူညီသောစက်မှုလုပ်ငန်းနှင့် လိုအပ်ချက်များအလိုက် ကွဲပြားသည်။သို့သော်လည်း ခြုံငုံကြည့်လျှင် ပစ်မှတ်ပစ္စည်း၏ သန့်ရှင်းမှု မြင့်မားလေ၊ sputtered film ၏ စွမ်းဆောင်ရည် ပိုကောင်းလေဖြစ်သည်။ဥပမာအားဖြင့်၊ optical သိုလှောင်မှုလုပ်ငန်းတွင်၊ ပစ်မှတ်ပစ္စည်း၏သန့်ရှင်းစင်ကြယ်မှုသည် 3N5 သို့မဟုတ် 4N ထက်ကြီးရန်လိုအပ်သည်
2. ညစ်ညမ်းမှုအကြောင်းအရာ
ပစ်မှတ်ပစ္စည်းသည် sputtering တွင် cathode အရင်းအမြစ်အဖြစ်ဆောင်ရွက်ပြီး ချွေးပေါက်အတွင်းရှိ အစိုင်အခဲများနှင့် အောက်ဆီဂျင်နှင့် ရေငွေ့များတွင် အညစ်အကြေးများသည် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များကို အပ်နှံရန်အတွက် အဓိကညစ်ညမ်းမှုအရင်းအမြစ်များဖြစ်သည်။ထို့အပြင်၊ မတူညီသောအသုံးပြုမှုပစ်မှတ်များအတွက် အထူးလိုအပ်ချက်များရှိပါသည်။ဖန်သားပြင်သိုလှောင်မှုလုပ်ငန်းကို နမူနာအဖြစ်ယူ၍ အပေါ်ယံအရည်အသွေးကိုသေချာစေရန် sputtering ပစ်မှတ်များတွင် အညစ်အကြေးပါဝင်မှုကို အလွန်နိမ့်ကျစွာ ထိန်းချုပ်ရပါမည်။
3. စပါးအရွယ်အစားနှင့် အရွယ်အစား ဖြန့်ဖြူးခြင်း။
အများအားဖြင့်၊ ပစ်မှတ်တွင် စပါးအရွယ်အစားသည် မိုက်ခရိုမီတာမှ မီလီမီတာအထိ စပါးအရွယ်အစားများရှိသည့် polycrystalline တည်ဆောက်ပုံ ရှိသည်။တူညီသောဖွဲ့စည်းမှုရှိသော ပစ်မှတ်များအတွက်၊ စပါးကြမ်းပစ်မှတ်များထက် ကောက်နှံမှုနှုန်းသည် စပါးကြမ်းပစ်မှတ်များထက် ပိုမြန်သည်။သေးငယ်သော စပါးအရွယ်အစား ကွာခြားမှုရှိသော ပစ်မှတ်များအတွက် စုဆောင်းထားသော ဖလင်အထူသည်လည်း ပို၍တူညီမည်ဖြစ်သည်။
4. ကျစ်လစ်သိပ်သည်းမှု
အစိုင်အခဲပစ်မှတ်ပစ္စည်းတွင် စိမ့်ဝင်နိုင်မှုကို လျှော့ချရန်နှင့် ရုပ်ရှင်စွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ရန်အတွက်၊ sputtering ပစ်မှတ်ပစ္စည်းသည် မြင့်မားသောသိပ်သည်းဆရှိရန် ယေဘုယျအားဖြင့် လိုအပ်ပါသည်။ပစ်မှတ်ပစ္စည်း၏သိပ်သည်းဆသည် ပြင်ဆင်မှုလုပ်ငန်းစဉ်ပေါ်တွင် အဓိကမူတည်သည်။အရည်ပျော်ခြင်းနှင့် သွန်းလုပ်ခြင်းနည်းလမ်းဖြင့် ထုတ်လုပ်သည့် ပစ်မှတ်ပစ္စည်းသည် ပစ်မှတ်ပစ္စည်းအတွင်း၌ ချွေးပေါက်များမရှိစေရန်နှင့် သိပ်သည်းဆအလွန်မြင့်မားကြောင်း သေချာစေပါသည်။
စာတိုက်အချိန်- ဇူလိုင်-၁၈-၂၀၂၃