ချမ်းသာအထူးပစ္စည်းများ Co.,Ltd.တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း၊ ဓာတုအငွေ့ထုတ်ခြင်း (CVD) နှင့် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ အခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (PVD) ဖန်သားပြင်နှင့် optical applications များတွင် အသုံးပြုရန်အတွက် အမြင့်ဆုံးဖြစ်နိုင်သော သိပ်သည်းဆနှင့် အသေးငယ်ဆုံး ဖြစ်နိုင်ချေရှိသော ပျမ်းမျှစပါးအရွယ်အစားများဖြင့် သန့်စင်မှုမြင့်မားသော Zirconium Sputtering ပစ်မှတ်များ။ပါးလွှာသောဖလင်အတွက် ကျွန်ုပ်တို့၏စံသတ်မှတ်ချက်ဖြစ်သော sputtering ပစ်မှတ်များကို monoblock သို့မဟုတ် 820 mm အထိ အသွားအလာပစ်မှတ်အတိုင်းအတာများနှင့် ဖွဲ့စည်းမှုပုံစံများဖြင့် ချိတ်ဆက်ထားပြီး threading၊ beveling၊ grooves နှင့် backing တို့ကို အဟောင်းကြီး sputtering ကိရိယာများအပြင် နောက်ဆုံးပေါ်စက်ကိရိယာများနှင့် လုပ်ဆောင်ရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသော အပေါက်များ၊ နေရောင်ခြည်စွမ်းအင် သို့မဟုတ် လောင်စာဆဲလ်များနှင့် Flip-chip အသုံးချပရိုဂရမ်များအတွက် ကြီးမားသော ဧရိယာအပေါ်ယံအကာများ ကဲ့သို့သော။သုတေသနအရွယ်အစား ပစ်မှတ်များကိုလည်း စိတ်ကြိုက်အရွယ်အစားနှင့် သတ္တုစပ်များကို ထုတ်လုပ်ပါသည်။ပစ်မှတ်အားလုံးကို X-Ray Fluorescence (XRF) အပါအဝင် အကောင်းဆုံး သရုပ်ပြနည်းပညာများကို အသုံးပြု၍ ခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာပါသည်။
စာတိုက်အချိန်- မေလ-၀၃-၂၀၂၃