လက်ရှိတွင် IC လုပ်ငန်းအတွက် လိုအပ်သော တန်ဖိုးကြီး အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှုရှိသော သတ္တုကြေးနီပစ်မှတ်အားလုံးနီးပါးကို နိုင်ငံစုံနိုင်ငံစုံကုမ္ပဏီများက လက်ဝါးကြီးအုပ်ထားသည်။ပြည်တွင်း IC လုပ်ငန်းအတွက် လိုအပ်သော အလွန်သန့်စင်သော ကြေးနီပစ်မှတ်များအားလုံးကို တင်သွင်းရန် လိုအပ်ပြီး စျေးကြီးရုံသာမက တင်သွင်းခြင်းဆိုင်ရာ လုပ်ထုံးလုပ်နည်းများတွင်လည်း ရှုပ်ထွေးသည့်အတွက်ကြောင့် တရုတ်သည် အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှု (6N) ကြေးနီ sputtering ပစ်မှတ်များကို ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးနှင့် အတည်ပြုရန် အရေးတကြီး လိုအပ်ပါသည်။ .အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှု (6N) ကြေးနီ sputtering ပစ်မှတ်များ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုအတွက် အဓိကအချက်များနှင့် အခက်အခဲများကို ကြည့်ကြပါစို့။
1၊အလွန်မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောပစ္စည်းများ၏ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှု
တရုတ်နိုင်ငံရှိ သန့်စင်သောမြင့်မားသော Cu၊ Al နှင့် Ta သတ္တုများ၏ သန့်စင်မှုနည်းပညာသည် စက်မှုဖွံ့ဖြိုးပြီးနိုင်ငံများတွင် ပြုလုပ်သည့်နည်းပညာနှင့် ဝေးကွာသည်။လက်ရှိတွင်၊ စက်မှုလုပ်ငန်းရှိ သမားရိုးကျ ဒြပ်စင်ခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာမှုနည်းလမ်းများနှင့်အညီ ပေါင်းစည်းထားသော ဆားကစ်များ၏ အရည်အသွေးသတ်မှတ်ချက်များနှင့် မပြည့်မီနိုင်ပါ။ပစ်မှတ်တွင် ပါဝင်သည့်အရေအတွက်သည် မြင့်မားလွန်းသည် သို့မဟုတ် မညီမညာ ဖြန့်ဝေသည်။အမှုန်အမွှားများကို sputtering လုပ်နေစဉ်အတွင်း wafer ပေါ်တွင် မကြာခဏဖြစ်ပေါ်ပြီး အပြန်အလှန်ချိတ်ဆက်မှု၏ short circuit သို့မဟုတ် open circuit ကိုဖြစ်ပေါ်စေပြီး ဖလင်၏စွမ်းဆောင်ရည်ကို အကြီးအကျယ်ထိခိုက်စေသည်။
2၊ကြေးနီ sputtering ပစ်မှတ်ပြင်ဆင်မှုနည်းပညာဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေး
ကြေးနီ sputtering ပစ်မှတ်ပြင်ဆင်မှုနည်းပညာ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးတွင် အဓိကအားဖြင့် စပါးအရွယ်အစား၊ တိမ်းညွှတ်မှု ထိန်းချုပ်မှုနှင့် တူညီမှုသုံးရပ်အပေါ် အဓိကအာရုံစိုက်သည်။ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းသည် ပစ်မှတ်များကို ပစ်မှတ်များကို ပစ်မှတ်များနှင့် အငွေ့ပြန်စေခြင်းအတွက် အမြင့်ဆုံးလိုအပ်ချက်များရှိသည်။၎င်းတွင် မျက်နှာပြင် စပါးအရွယ်အစားနှင့် ပစ်မှတ်၏ ပုံဆောင်ခဲ တိမ်းညွှတ်မှုကို ထိန်းချုပ်ရန်အတွက် အလွန်တင်းကျပ်သော လိုအပ်ချက်များ ရှိသည်။ပစ်မှတ်၏ စပါးအရွယ်အစားကို 100 တွင် ထိန်းချုပ်ရပါမည်။μ ထို့ကြောင့် အောက်တွင်ဖော်ပြထားသော M သည် စပါးအရွယ်အစားထိန်းချုပ်မှုနှင့် ဆက်စပ်မှုခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာမှုနှင့် ထောက်လှမ်းမှုနည်းလမ်းများသည် သတ္တုပစ်မှတ်များဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုအတွက် အလွန်အရေးကြီးပါသည်။
3၊ခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာခြင်းနှင့်ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးစမ်းသပ်ခြင်း နည်းပညာ
ပစ်မှတ်၏ မြင့်မားသော သန့်ရှင်းမှုသည် အညစ်အကြေးများကို လျှော့ချခြင်း ကို ဆိုလိုသည်။ယခင်က၊ inductively coupled plasma (ICP) နှင့် atomic absorption spectrometry ကို အညစ်အကြေးများကို ဆုံးဖြတ်ရန်အတွက် အသုံးပြုခဲ့ကြသော်လည်း မကြာသေးမီနှစ်များတွင် glow discharge quality analysis (GDMS) ကို မြင့်မားသော sensitivity ဖြင့် စံအဖြစ် တဖြည်းဖြည်း အသုံးပြုခဲ့သည်။ နည်းလမ်း.ကျန်ရှိသော ခုခံမှုအချိုး RRR နည်းလမ်းကို လျှပ်စစ်သန့်စင်မှုကို ဆုံးဖြတ်ရန်အတွက် အဓိကအားဖြင့် အသုံးပြုပါသည်။၎င်း၏ ပြဌာန်းချက်နိယာမမှာ အညစ်အကြေးများ အီလက်ထရွန်းနစ် ပျံ့လွင့်မှု အတိုင်းအတာကို တိုင်းတာခြင်းဖြင့် အခြေခံသတ္တု၏ သန့်စင်မှုကို အကဲဖြတ်ရန် ဖြစ်သည်။အခန်းအပူချိန်နှင့် အလွန်နိမ့်သောအပူချိန်တွင် ခံနိုင်ရည်အား တိုင်းတာရန်ဖြစ်သောကြောင့် နံပါတ်ကိုယူရန် ရိုးရှင်းပါသည်။မကြာသေးမီနှစ်များအတွင်း၊ သတ္တုများ၏ အနှစ်သာရကို စူးစမ်းလေ့လာရန်အတွက် အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှုဆိုင်ရာ သုတေသနသည် အလွန်တက်ကြွပါသည်။ဤကိစ္စတွင်၊ RRR တန်ဖိုးသည် သန့်ရှင်းမှုကို အကဲဖြတ်ရန် အကောင်းဆုံးနည်းလမ်းဖြစ်သည်။
စာတိုက်အချိန်- မေ-၆-၂၀၂၂