FeTa Sputtering Target သည် မြင့်မားသော သန့်ရှင်းမှု ပါးလွှာသော ဖလင် Pvd အပေါ်ယံပိုင်းကို စိတ်တိုင်းကျ ပြုလုပ်ထားသည်။

RSM ၏ Iron Tantalum sputtering ပစ်မှတ်များသည် အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှုနှင့် တစ်ပြေးညီဖြစ်သည်။၎င်းတို့ကို ပုံစံအမျိုးမျိုး၊ သန့်ရှင်းမှု၊ အရွယ်အစားနှင့် ဈေးနှုန်းများဖြင့် ရရှိနိုင်ပါသည်။

ကျွန်ုပ်တို့သည် ဂျီဩမေတြီပုံစံအမျိုးမျိုးကို ထောက်ပံ့ပေးနိုင်သည်- ပြွန်များ၊ arc cathodes၊ planar သို့မဟုတ် စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသည်။ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်များသည် အလွန်ကောင်းမွန်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများ၊ တစ်သားတည်းဖြစ်တည်နေသော အသေးစားတည်ဆောက်ပုံ၊ ခွဲခြားထားခြင်း၊ ချွေးပေါက်များ သို့မဟုတ် အက်ကွဲကြောင်းများမရှိသော ပွတ်တိုက်နေသောမျက်နှာပြင်များပါရှိသည်။

မှိုအပေါ်ယံပိုင်း၊ အလှဆင်ခြင်း၊ မော်တော်ကားအစိတ်အပိုင်းများ၊ Low-E glass၊ semi-conductor ပေါင်းစပ်ဆားကစ်၊ ပါးလွှာသောဖလင်များတွင် အသုံးပြုရန်အတွက် အမြင့်ဆုံးသောသိပ်သည်းဆနှင့် အသေးငယ်ဆုံးဖြစ်နိုင်သော ပျမ်းမျှစပါးအရွယ်အစားများနှင့်အတူ သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော ပါးလွှာသောဖလင်အပေါ်ယံပိုင်းပစ္စည်းများကို အထူးပြုထုတ်လုပ်ပါသည်။ ခံနိုင်ရည်၊ ဂရပ်ဖစ်ပြသမှု၊ အာကာသယာဉ်၊ သံလိုက်မှတ်တမ်းတင်မှု၊ ထိတွေ့မျက်နှာပြင်၊ ပါးလွှာသောဖလင်ဆိုလာဘက်ထရီနှင့်အခြားရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအငွေ့ပြန်မှု (PVD) အသုံးချပရိုဂရမ်များ။sputtering ပစ်မှတ်များနှင့် စာရင်းမသွင်းထားသော အခြား အစစ်ခံပစ္စည်းများအပေါ် လက်ရှိစျေးနှုန်းအတွက် စုံစမ်းမေးမြန်းရန် ကျွန်ုပ်တို့ထံ ပေးပို့ပါ။