CrTi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating ကို စိတ်တိုင်းကျ ပြုလုပ်ထားသည်။

ပစ်မှတ်များကို ခရိုမီယမ် နှင့် တိုက်တေနီယမ် အမှုန့်များ ရောစပ်ခြင်း သို့မဟုတ် လေဟာနယ် အရည်ပျော်ခြင်း ဖြင့် ပြီးသိပ်သည်းမှု အပြည့်အထိ ကျစ်ကျစ်လျစ်လျစ် ဖြစ်စေပါသည်။ထို့ကြောင့် ကျစ်ကျစ်လျစ်လျစ်ထားသော ပစ္စည်းကို စိတ်ကြိုက်ရွေးချယ်နိုင်ပြီး လိုချင်သော ပစ်မှတ်ပုံစံသို့ ဖွဲ့စည်းနိုင်သည်။

Chrome Titanium sputtering ပစ်မှတ်တွင် မြင့်မားသော သန့်စင်မှု၊ တစ်သားတည်းကျသော အသေးစားဖွဲ့စည်းပုံ၊ သိပ်သည်းဆ မြင့်မားပြီး ဓာတ်ငွေ့ပါဝင်မှု နည်းပါးသည်။မှိုဖြတ်တောက်ခြင်းကိရိယာများအတွက် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များဖွဲ့စည်းရာတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသည်။အစစ်ခံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း၊ ဂေါက်ဘောလုံး၏ အပြင်ဘက်မျက်နှာပြင်သို့ တိုက်ရိုက်အသုံးချနိုင်သည့် TiCN coating ကို ဖွဲ့စည်းနိုင်သည်။TiCN coating ကို သတ္တုမျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အနီးကပ် ကပ်ထားနိုင်သည်။ဤအလွှာသည် ၎င်း၏အလွန်ကောင်းမွန်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများ၊ ခိုင်ခံ့မှုနှင့် မာကျောမှုအတွက် ဂေါက်ကွင်းပတ်ဝန်းကျင်ကို အပြည့်အ၀ လိုက်ဖက်နိုင်ပါသည်။

ကျွန်ုပ်တို့၏ ခရိုမီယမ် တိုက်တေနီယမ် ဖြန်းပစ်ပစ်မှတ်များကို သိုလှောင်မှုနှင့် သယ်ယူပို့ဆောင်ရေးအတွင်း ပျက်စီးမှုမှ ကာကွယ်ရန်နှင့် ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်များ၏ မူလအခြေအနေတွင် အရည်အသွေးကို ထိန်းသိမ်းထားရန် ဂရုတစိုက် ကိုင်တွယ်ထားပါသည်။

Rich Special Materials သည် sputtering ပစ်မှတ်များ ထုတ်လုပ်မှုတွင် အထူးပြုပြီး ခရိုမီယမ်နှင့် တိုက်တေနီယမ် စပရိုက်ပစ္စည်းများကို သုံးစွဲသူ၏ သတ်မှတ်ချက်များနှင့်အညီ ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်များသည် အလွန်ကောင်းမွန်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများ၊ တစ်သားတည်းကျသောဖွဲ့စည်းပုံ၊ ပွတ်တိုက်သောမျက်နှာပြင်များနှင့် ခွဲခြားထားခြင်း၊ အပေါက်များ သို့မဟုတ် အက်ကွဲကြောင်းများမရှိပါ။ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။