CuP Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating ကို စိတ်တိုင်းကျ ပြုလုပ်ထားသည်။

Copper Phosphorus သတ္တုစပ်များကို ယေဘူယျအားဖြင့် ကြေးနီနှင့် ကြေးနီသတ္တုစပ်များကို deoxidize ပြုလုပ်ရန်အတွက် အသုံးပြုကြသည်။အခြား deoxidants များစွာရရှိနိုင်သော်လည်း phosphorus သည် အသက်သာဆုံးဖြစ်ကြောင်း သက်သေပြခဲ့သည်။
ကြေးနီဖော့စဖရပ်စ်သတ္တုစပ်များသည် ဖော့စဖရပ်ကြေးနှင့် အမျိုးမျိုးသော ကြေးနီသတ္တုစပ်များအပါအဝင် ကြေးနီသတ္တုစပ်များတွင် ဖော့စဖရပ်ပမာဏအချို့ကို ပေါင်းထည့်ရန်အတွက်လည်း သတ္တုစပ်အေးဂျင့်အဖြစ်လည်း ဆောင်ရွက်ပါသည်။ဖော့စဖရပ်စ်ကို ပေါင်းထည့်ခြင်းသည် သတ္တု၏ အရည်ပျော်မှုကို တိုးစေသည်။

CuP8 မာစတာအလွိုင်းကို အလူမီနီယမ်စက်မှုလုပ်ငန်းတွင် အသုံးပြုပြီး သတ္တုစပ်၏ ခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ ခံနိုင်ရည်နှင့် ခိုင်ခံ့မှုတို့ကို တိုးမြှင့်ရန်အတွက် သတ္တုစပ်၏ အသွင်သဏ္ဍာန်နှင့် အရွယ်အစားကို ထိန်းချုပ်ရန်အတွက် Hypereutectic Aluminum Silicon Foundry သတ္တုစပ်များကို ကုသရန်အတွက် အသုံးပြုပါသည်။ကြေးနီဖော့စဖရပ်စ်သတ္တုစပ်များကို deoxidation အသုံးချမှုများအတွက် အသုံးပြုသောအခါတွင် ကျန်ရှိသော phosphorus အဆင့် 0.010% မှ 0.015% ရရှိခြင်းသည် အထူးသဖြင့် သတ္တုတူးဖော်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း ဓာတ်တိုးခြင်းကို ကာကွယ်ရန်အတွက် ဘုံအလေ့အကျင့်တစ်ခုဖြစ်သည်။

ကြေးနီဖော့စဖရပ်စ်သတ္တုစပ်များသည် ကော့ပါး-ခဲ-တင်၊ ကော့ပါး-တင်-ဇင့်၊ နှင့် ကော့ပါး-တင်သွန်းသတ္တုစပ်များအတွက် ထိရောက်သော deoxidant အဖြစ် ဆောင်ရွက်သည်။မည်သို့ပင်ဆိုစေကာမူ၊ ဖော့စဖရပ်စ်သည် လျှပ်စစ်စီးကူးမှုကို ထိခိုက်စေသောကြောင့် ၎င်းတို့အား လျှပ်ကူးနိုင်စွမ်းမြင့်မားသော ကြေးနီကို deoxidize ပြုလုပ်ရာတွင် အသုံးမပြုနိုင်ပါ။

ကြွယ်ဝသော အထူးပစ္စည်းများသည် Sputtering ပစ်မှတ်ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် အထူးပြုပြီး ဖောက်သည်များ၏ သတ်မှတ်ချက်များအရ ကြေးနီဖော့စဖရပ်စ်စပတာထုတ်ပစ္စည်းများကို ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။